Sample records for ZAMAK (zamak)
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Electrodeposición de Cobre-Latón sobre sustratos de Zamak utilizando las técnicas DC, PDC y PRC

Aperador Chaparro, William; Laverde Cataño, Dionisio; Vera López, Enrique
2006-01-01

Resumen en español Este trabajo muestra la implementación de las técnicas de corriente pulsante inversa, corriente pulsante directa y corriente directa para electrodepositar películas delgadas de cobre-latón en forma de bicapa sobre sustratos de Zamak. El análisis morfológico se realizó utilizando microscopía de fuerza atómica (AFM) permitiendo identificar que las películas obtenidas con corriente pulsante inversa presentan un tamaño de grano más fino que las películas obtenida (mas) s mediante las otras dos técnicas. Para evaluar la resistencia a la corrosión de las películas se utilizó la técnica EIS y curvas de polarización. Se observó de igual manera que la deposición utilizando la técnica de corriente pulsante inversa genera depósitos que incrementa la resistencia a la corrosión de las películas obtenidas. Resumen en inglés This research shows the implementation of the techniques of inverse-pulsing current, direct-pulsing current and direct current for the electrodeposition of copper brass thin films as double-layer on Zamak substrates. The morphological analysis has been carry out by using atomic force microscopy (AFM). This technique allowed the detection of finer grain size on the films obtained by inverse-pulsing in comparison with the films obtained via the other two techniques. In orde (mas) r to evaluate the corrosion resistance of the thin films, EIS technique and polarization curves were employed. It was also observed that deposition by using the inverse-pulsing current technique generated deposits of minor porosity and increased the corrosion resistance of the obtained films.

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