Sample records for CHISPORROTEO (sputtering)
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1

Influencia del bombardeo iónico sobre películas delgadas de nitruro de boro cúbico depositadas por pulverización catódica r. f./ Influence of ionic bombardment on cubic boron nitride (c-BN) thin film deposition by r. f. magnetron sputtering

Bejarano Gaitán, Gilberto; Roque Caicedo, José Manuel; Prieto Pulido, Pedro; Zambrano, Gustavo; Baca Miranda, Eval
2006-07-01

Resumen en español Películas delgadas de nitruro de boro cúbico (c-BN) fueron depositadas mediante la técnica del d. c. y r. f. (13,56 MHz) magnetron sputtering multi-blanco, utilizando un blanco de nitruro de boro hexagonal (h-BN) con una pureza de 99,9% y una mezcla de gas Ar (95%) y N2 (5%). Los recubrimientos se depositaron a una temperaturas de 300 y 900 °C y a densidades de potencia de 7 y 24 W/cm². Con el propósito de obtener la mayor fracción posible de fase cúbica del BN, s (mas) e aplicó un Bias d. c. entre 0-250 V, así como también un bias r. f. entre 0-350 V durante la fase de crecimiento del recubrimiento. La microestrutura, composición, morfología, topografía y espesor de las películas se caracterizaron mediante espectroscopia en el infrarrojo por transformadas de Fourier (FTIR) y microscopía de fuerza atómica (AFM). Las películas de c-BN depositadas a 300 °C, a una presión de 4 x 10-³ mbar y un bias r. f. del substrato de -150 V durante el periodo de crecimiento por un tiempo 35 min, presentaron la mayor fracción de fase cúbica de aproximadamente 85%. Resumen en inglés Thin films of cubic Boron Nitride (c-BN) were deposited by d. c. and r. f. (13,56 MHz) multi-target magnetron sputtering from high-purity (99,99 %) hexagonal boron nitride (h-BN) target, in an Ar (95%)-N2 (5%) gas mixture. Films were deposited at 300 and 900 ºC, with power density of 7 and 24 W/cm². In order to obtain the highest fraction of the c-BN phase, a d. c. substrate bias voltage between 0 and -250 V, as well as an r. f. substrate bias voltage between 0 V and 35 (mas) 0 V were applied during the film growth. Characterization of the microstructure, composition, morphology, topography and thickness of the films was carried out by Fourier Transformed Infrared Spectroscopy (FTIR), Scanning Electron Microscopy (SEM) and Atom Force Microscopy (AFM). It was found that BN films deposited at 300 ºC, at a pressure of 4 x 10-³ mbar and under -150 V of r. f. bias, applied for 35 min, presented the highest c-BN fraction, close to 85%.

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2

Influencia del sustrato, espesor de la capa y técnica de depósito en la textura cristalográfica de películas delgadas de TiN

Monsalve, Mónica; López, Esperanza; Vargas, Fabio; González, Andrés; Benavides, Vicente
2009-12-01

Resumen en español Este trabajo presenta los resultados del depósito de recubrimientos de TiN sobre sustratos metálicos (acero AISI M2 y AISI 304) mediante diversas técnicas tales como la deposición física en fase vapor, Pulverización Catódica con Magnetrón e Implantación Iónica. Con el fin de identificar las fases presentes, así como la estructura cristalina, la textura cristalográfica, y los parámetros de red de los recubrimientos, se utilizó difracción de rayos X con bajo (mas) ángulo de incidencia. El espesor de las películas se midió mediante análisis de las imágenes obtenidas por microscopia electrónica de Barrido. Los recubrimientos de TiN obtenidos por Pulverización Catódica con Magnetrón mostraron una orientación preferencial en el plano (200), lo cual está de acuerdo con la literatura. Este plano tiene la menor energía superficial. Los recubrimientos de TiN producidos por Implantación Iónica mostraron una alta textura cristalográfica en el plano (111), el cual tiene la menor energía de deformación elástica. Para recubrimientos depositados en el acero AISI 304 , la intensidad del plano (200) pareció incrementar con el aumento del espesor del recubrimiento. Sin embargo, este no era el caso de los recubrimientos depositados sobre acero AISI M2. Resumen en inglés This paper presents results on the deposition of TiN coatings on metallic substrates (Steel AISI M2 and AISI 304) by various techniques such as physical vapour deposition, Magnetron Sputtering and Ion Platting. In order to identify the phases present, as well as the crystalline structure, the crystallographic texture, and the lattice parameters of the coatings, X-ray diffraction at low incidence angle was used. The thickness of the coatings was estimated by image analysis (mas) of micrograph obtained by means of Scanning Electron Microscopy. The TiN coatings obtained by Magnetron Sputtering exhibited a preferential orientation for the crystalline reflection (200) and this is in agreement with the literature. This particular plane has the lowest superficial energy. Conversely the TiN coatings produced by Ion Platting showed a high crystallographic texture in relation to the crystalline reflection (111) which has lower elastic deformation energy. For the coatings deposited on AISI 304 steel, the intensity on plane 200 appeared to increase with increasing coating thickness. However this was not the case for the coatings deposited on AISI M2 steel.

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Estudio mediante difracción de rayos X de las tensiones residuales producidas durante el depósito de películas delgadas de TiN sobre sustratos metálicos/ Study by X-ray diffraction of the residual stress produced during deposition of TiN thin films on metallic substrates

Monsalve, Mónica; López, Esperanza; Meza, Juan; Vargas, Fabio
2010-08-01

Resumen en español En este trabajo se analizó la influencia que tiene el espesor de la película y el tipo de sustrato en el nivel y tipo de esfuerzos residuales generados en recubrimientos de TiN obtenidos por dos técnicas de deposición física en fase vapor: pulverización catódica con magnetrón e implantación iónica. Los sustratos utilizados fueron un acero inoxidable AISI 304 y un acero de herramientas AISI M2. Las tensiones residuales, las fases presentes y la orientación crist (mas) alográfica de las películas depositadas fueron obtenidas mediante análisis de difracción de rayos X por incidencia rasante. Se encontró que los esfuerzos residuales fueron mayores en las películas depositadas por la técnica de pulverización catódica con magnetrón que en las depositadas por la técnica de implantación iónica. En ambos casos estos esfuerzos son de compresión y disminuyen en la medida que aumenta el espesor de la película. Esto se debe a la forma como se entrega la energía, la capa en crecimiento y el momentum de las partículas ionizadas, lo que influye directamente en la microestructura y aumento o disminución de los esfuerzos residuales. En cuanto al tipo de sustrato se obtuvieron esfuerzos mayores en las películas depositadas sobre el acero AISI 304 que en las depositadas sobre el acero AISI M2, lo cual se debe posiblemente a que este último acero tiene un menor coeficiente de expansión térmica. Resumen en inglés The influence of film thickness and the substrate type on the level and type of residual stresses generated on TiN coatings are analyzed. Two different physical vapor deposition (PVD) techniques: Magnetron Sputtering and Ion Plating were applied. Two materials were used as substrate: stainless steel AISI 304 and AISI M2 tool steel. The study of the residual stresses, the present phases, the crystalline structure and the crystallographic texture of the deposited films was (mas) performed by X-ray diffraction analysis using the grazing method with a low incidence angle. The results show that the residuals stresses produced by both deposition techniques were of compression and that their level decreased by increasing the film thickness. Moreover, the residual stresses were higher in those coatings deposited by Magnetron sputtering than coatings produced by Ion Platting. The residuals stresses in the films deposited on the AISI 304 steel were greater than those produced in AISI M2 steel. This is due to the delivery energy mechanism to the layer growth and momentum of the ionized particles, which directly influence the microstructure and increase or decrease residual stresses. Regarding the substrate, residuals stresses were greater on the films produced on AISI 304 steel, than those deposited on the AISI M2 steel, which is possibly due to the lower coefficient of thermal expansion of M2 steel.

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RECUBRIMIENTOS DE (Ti,Al)N SOBRE ACERO AISI 4140 POR SPUTTERING REACTIVO/ (Ti,Al)N COATINGS ON AISI 4140 BY R.F. SPUTTERING

GARCIA, DANNA; PIRATOBA, ULISES; MARIÑO, ALVARO
2007-07-01

Resumen en español Empleando la técnica de Pulverización catódica con radiofrecuencia y magnetrón (Magnetron Sputtering RF), se prepararon películas de (Ti,Al)N sobre sustratos de acero AISI 4140. Se utilizó un blanco formado con polvos metálicos de Ti y Al, con composición nominal 60% Ti y 40% Al (porcentaje en átomos) y una razón de presiones parciales de nitrógeno - argón, PN2/PAr de 0,1 aproximadamente; la temperatura del sustrato se varió entre 260 y 330 ºC y el tiempo de (mas) deposición entre 2 y 4,5 horas para obtener películas con diferentes espesores. La composición química de las películas se determinó mediante la técnica de energía dispersada de rayos X (EDX), y su topografía mediante microscopía de fuerza atómica (AFM). Igualmente se midió micro dureza, y se determinó su comportamiento electroquímico mediante espectroscopia de impedancia electroquímica EIS y ensayos TAFEL. Las películas obtenidas presentaron granos globulares, uniformes y de pequeño diámetro, con características electroquímicas de protección al sustrato frente a procesos de corrosión. Resumen en inglés TiAlN films were deposited by rf magnetron sputtering onto AISI 4140 steel substrates. A mixed target of metallic Ti and Al with a nominal composition of 60 atom% Ti and 40 atom% Al was used. The substrate temperature was varied between 260 ºC and 330 ºC, at a PN2/PAr pressure ratio of about 0.1. Coatings of different thickness were obtained, varying the time deposition between 2 and 4,5 hours. The chemical composition of the films was determined by EDX, and the surface (mas) topography by AFM. The electrochemical behavior, determined by EIS and TAFEL, and the micro - hardness were analyzed; the coatings displayed mainly a granular structure with small and regular grains.

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5

Mejoramiento de propiedades mecánicas y tribológicas en herramientas industriales mediante aplicación de recubrimientos multicapa de TiN/ZrN/ Improvement of mechanical and tribological properties in industrial tools by means of application of TiN/ZrN multilayer coatings

Gómez, Maryory Astrid; Bejarano Gaitán, Gilberto; Osorio, Jaime Alberto
2010-08-01

Resumen en español En el presente trabajo se depositaron recubrimientos multicapa de TiN/ ZrN con 10 bicapas y recubrimientos monocapa de TiN y ZrN mediante pulverización catódica magnetrón r.f. Además, el recubrimiento multicapa se aplicó en fresadoras y se evaluó su desempeño en términos de vida útil de la herramienta. Los recubrimientos se caracterizaron a escala de laboratorio mediante difracción de rayos X, microscopía de fuerza atómica, microdureza Knoop, pruebas de desgas (mas) te mediante CaloTest y medidas de adhesión por la prueba de rayado. El recubrimiento multicapa superó a los recubrimientos monocapa en resistencia al desgaste, dureza superficial y carga crítica soportada. La adhesión mostrada por todos los recubrimientos fue muy buena como para ser considerados recubrimientos para aplicaciones industriales. Se incrementó la vida útil de fresas industriales en un 54,1 % con la aplicación del recubrimiento multicapa. Resumen en inglés Most of the hard coatings have good wear and corrosion resistance; they have been widely used commercially to increase the life span of some industrial elements, for example, cutting tools, sprockets, bearings and components for industrial machinery. In this work TiN/ZrN multilayer coatings were deposited with 10 bilayers by r.f. magnetron sputtering technique, which was also used to deposit monolayer coatings of TiN and ZrN. In addition, the multilayer coating was applie (mas) d in milling tools and their performance was evaluated in terms of tool life. The coatings were characterized to laboratory scale through X-ray diffraction, atomic force microscopy, Knoop micro hardness, wear tests by CaloTest and adhesion measures by scratch test. The multilayer coating exceeded the monolayer coatings in wear resistance, surface hardness and critical load supported. The adhesion showed for all the coatings was very good as to be considered industrial coatings. The life span of the milling tools were increased to 54.1 % with the application of the multilayer coating.

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6

Tuning of spontaneous emission of two-dimensional photonic crystal microcavities by accurate control of slab thickness

Alija, Alfonso R.; Martínez Rodríguez, Luis Javier; García-Martín, Antonio; Dotor, María Luisa; Golmayo, Dolores; Postigo, Pablo Aitor
2005-03-29

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7

Tribological behaviour of titanium carbide/amorphous carbon nanocomposite coatings: From macro to the micro-scale

Sánchez López, Juan Carlos; Martínez-Martínez, D.; López Cartes, C.; Fernández Camacho, Asunción
2008-05-15

Digital.CSIC (Spain)

8

Transverse ratchet effect and superconducting vortices: simulation and experiment

Dinis, L.; Pérez de Lara, D.; González, E. M.; Anguita, José Virgilio; Parrondo, J. M. R.; Vicent, J. L.
2009-07-23

Digital.CSIC (Spain)

9

Tilt angle control of nanocolumns grown by glancing angle sputtering at variable argon pressures

García Martín, José Miguel; Alvarez, R.; Romero-Gómez, P.; Cebollada, Alfonso; Palmero, A.
2010-10-25

Digital.CSIC (Spain)

10

The influence of the Pt buffer layer on the perpendicular magnetic anisotropy in epitaxial FePd(001) ordered alloys grown by sputtering

Caro, P.; Cebollada, Alfonso; Ravelosona, D.; Briones Fernández-Pola, Fernando; García, D.; Vázquez Valero, Manuela; Hernando, A.
1997-04-01

Digital.CSIC (Spain)

11

Temperature and thickness dependence at the onset of perpendicular magnetic anisotropy in FePd thin films sputtered on MgO(001)

Clavero, C.; García-Martín, José Miguel; Costa Krämer, José Luis; Armelles Reig, Gaspar; Cebollada, Alfonso; Huttel, Y.; Lukaszew, R. A.; Kellock, A. J.
2006-05-04

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12

Tailored synthesis of nanostructured WC/a-C coatings by dual magnetron sputtering

Abad Roldán, Manuel David; Muñoz-Márquez, Miguel Ángel; El Mrabeta, Said; Justo, Ángel; Sánchez-López, Juan Carlos
2010-01-01

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13

Tailored synthesis of TiC/a-C nanocomposite tribological coatings

Martínez-Martínez, D.; López Cartes, C.; Justo Erbez, Ángel; Fernández Camacho, Asunción; Sánchez López, Juan Carlos; García Luis, A.; Brizuela, M.; Oñate, J. I.
2005-10-25

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14

Surface Plasmon Resonance Effects in the Magneto-Optical Activity of Ag–Co–Ag Trilayers

Ferreiro Vila, E.; Bendaña, X.M.; González Díaz, Juan Bautista; García-Martín, Antonio; García-Martín, José Miguel; Cebollada, Alfonso; Armelles Reig, Gaspar; Meneses, D.; Muñoz Sandoval, E.
2008-11-17

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15

Study of the effect of acetic acid vapor on copper corrosion at 40 and 80% relative humidity

Cano Díaz, Emilio; Bastidas Rull, José María; Polo, J. L.; Mora, N.
2001-09-20

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16

Structure and magnetic anisotropies of epitaxial FePd (0 0 1) and (1 1 0) alloys

Cebollada, Alfonso; Caro, P.; Menéndez, José Luis; Briones Fernández-Pola, Fernando; García, D.; Hernando, A.; García Díaz, J. A.
1999-08-01

Digital.CSIC (Spain)

17

Structure and chemical order in sputtered epitaxial FePd(001) alloys

Caro, P.; Cebollada, Alfonso; Briones Fernández-Pola, Fernando; Toney, M. F.
1998-05-15

Digital.CSIC (Spain)

18

Stress and magnetoelastic properties control of amorphous Fe80B20 thin films during sputtering deposition

Fernández-Martínez, Ivan; Costa Krämer, José Luis; Briones Fernández-Pola, Fernando
2008-06-03

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19

Straindashinduced enhanced solubility of Au in epitaxial films of Fe

Pastor, C. J.; Limones, C.; Hinarejos, J. J.; García, Jorge M.; Miranda, Rodolfo; Gómez-Goñi, J.; Ortega, J. E.; Abruña, H. D.
1996-08-10

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20

Spin-dependent scattering in nanocrystalline Fe:GMR

Hernando, A.; Briones Fernández-Pola, Fernando; Cebollada, Alfonso; Crespo, P.
2002-09-01

Digital.CSIC (Spain)

21

Spatial and chemical interface asymmetry in Fe/MgO/Fe(001) heterostructures

Palomares, F. J.; Munuera, C.; Martínez Boubeta, C.; Cebollada, Alfonso
2005-01-14

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22

Size effects in the magneto-optical response of Co nanoparticles

Clavero, C.; Cebollada, Alfonso; Armelles Reig, Gaspar; Huttel, Y.; Arbiol, J.; Peiró, F.; Cornet, A.
2005-07-19

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Sistema portátil para determinar compuestos orgánicos volátiles en suelos

Gutiérrez Monreal, Francisco Javier; Horrillo Güemes, María del Carmen; Getino González, José; Ares Escolar, Luis Manuel; Robla Villalba, José Ignacio; García Galindo, Carmen; Sayago Olmo, Isabel; Rino García, Julio; Sanjurjo Sixto, Ricardo
1999-06-16

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24

Role of volume versus defects in the electrical resistivity of lattice-distorted V(001) ultrathin films

Huttel, Y.; Cerdá, J.I.; Martínez, J.L.; Cebollada, Alfonso

4 nm thick V layers grown by triode sputtering on MgO(001) single crystals and capped with MgO exhibit a perfect epitaxy accompanied by a tetragonal distortion and an unexpected volume compression that increases with the V deposition temperature. The electrical resistivity follows a deposition temp...

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27

Regímenes estático y dinámico en la evolución estructural de microclinas pertíticas

Sánchez-Muñoz, L.; García Guinea, Javier; Correcher, Virgilio; Sanz Lázaro, Jesús
2006-07-01

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29

Recubrimientos protectores de TiN y AIN: comportamiento frente a temperatura

Sánchez Garrido, Olga; Albella Martín, José María; Auger, M. A.
2006-03-01

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Recubrimientos de TiAlN sobre acero ASTM A36 por el proceso de sputtering reactivo RF/ TiAlN films on ASTM A36 steel for sputtering reactive process RF

Quesada, Franz; Mariño, Álvaro
2006-07-01

Resumen en español Películas de TiAlN fueron depositadas sobre acero ASTM A36 por el proceso de sputtering reactivo RF utilizando un blanco en polvo con composición TiAl (60/40%), en el proceso se utilizaron dos relaciones de presión (P N/P Total), 0,05 y 0,1, manteniendo constante la presión de argón. Las películas se depositaron sobre probetas en estado de suministro, templadas y revenidas, nitruradas por plasma, con recubrimientos previos de Ti y TiN a una temperatura de 230 oC. La (mas) s películas presentaron una composición Ti0.4Al0.6N con orientación preferencial (200); las mejores propiedades de dureza, resistencia a la corrosión, resistencia al desgaste fueron con la relación de presión de 0,1 y la mayor adherencia con la relación de presión de 0,05. La máxima dureza fue de 2500 HK. Resumen en inglés TiAlN films were deposited on ASTM A36 steel by RF reactive sputtering process using a TiAl (60/40%) target. Films were sputtered at two different relative pressures, 0,05 and 0,1, keeping constant the Argon pressure. The films were deposited on samples with different pretreatments: as received material, hardened and quenched, plasma-nitrided, and with initial coatings of Ti and TiN. Film deposition was conducted at 230°C. The TiAlN films showed composition Ti0.4Al0.6N w (mas) ith preferred orientation (200). The best properties of hardness, corrosion resistance, and wear resistance were observed at a relative pressure of 0,1 and best adherence at a relative pressure of 0,05. The highest was 2500 HK.

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Propiedades mecánicas de nitruros metálicos depositados con UBM: tecnología eficiente y ambientalmente limpia

Olaya, J.J.; Marulanda, D.M.; Rodil, S.E.; Bhushan, B.
2009-12-01

Resumen en español El objetivo de esta investigación es estudiar la influencia de la configuración del campo magnético en un sistema de sputtering en las propiedades mecánicas de recubrimientos de CrN, TaN, TiN, NbN y ZrN. Se cuantificaron diferentes configuraciones del campo magnético a través del coeficiente de desbalanceo K G , que es proporcional al punto de campo cero en el magnetrón. En este trabajo de depositaron películas con dos configuraciones del campo magnético, K G =1. (mas) 3 y 0.825. El efecto más importante de la configuración del campo magnético se observó en la dureza de la película. Al depositar sobre acero AISI M2 y acero 304, mejoraron las propiedades mecánicas y la resistencia al desgaste al aumentar el parámetro de energía; los valores de dureza más altos se obtuvieron para las películas de TaN, NbN y ZrN. Otra consecuencia del cambio en el campo magnético fue la variación en los esfuerzos residuales de compresión. La variación más alta se presentó en las películas de TaN mientras que las películas de CrN presentaron la menor concentración de esfuerzos. Resumen en inglés The aim of this research is to study the influence of the magnetic field configuration in a sputtering system on the mechanical properties of CrN, TaN, TiN, NbN and ZrN coatings. Different magnetic field configurations were quantified through the unbalance coefficient, K G , which is proportional to the zero field point in the magnetron. In this work, films were deposited in two magnetic field configurations, K G =1.3 and 0.825. The most important effect of the magnetic f (mas) ield configuration was observed on film hardness. When depositing on AISI M2 and 304 steels, mechanical properties and wear resistance were increased when increasing energy parameter; higher hardness was obtained for TaN, NbN and ZrN films. Another consequence of the change in the magnetic field was compressive residual stress variation. Higher variation was presented on TaN films while CrN films presented lower stress concentration.

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32

Production of ordered silicon nanocrystals by low-energy ion sputtering

Gago, Raul; Vázquez, Luis; Cuerno, Rodolfo; Varela, María; Ballesteros, Carmen
2001-05-21

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Preparación de películas delgadas del sistema Ti-Al-O mediante rf-sputtering

Montes de Oca, J.A.; Ceballos-Alvarez, J.; Galaviz-Pérez, J.; Manaud, J.-P.; Lahaye, M.; Muñoz-Saldaña, J.
2010-04-01

Resumen en español En el presente trabajo se sintetizaron películas delgadas del sistema Ti-Al-O mediante la técnica rf-sputtering sobre sustratos de vidrio y silicio (Si), usando blancos de compuestos intermetálicos de TiAl y Ti3Al en una cámara con atmósfera de Ar-O2. Las películas de Ti-Al-O fueron obtenidas variando parámetros experimentales, tales como el porcentaje de oxígeno alimentado a la cámara de reacción, la densidad de potencia del plasma y la temperatura del sustrato (mas) . Las películas depositadas sobre sustratos de vidrio fueron utilizadas para evaluar las propiedades ópticas, mientras que las películas crecidas sobre sustratos de Si fueron empleadas para determinar las propiedades mecánicas y morfológicas. La estructura cristalina, morfología, composición química y propiedades ópticas de las películas fueron evaluadas mediante difracción de rayos X (DRX), microscopía electrónica de barrido de alta resolución (MEB-AR), espectroscopia de electrones Auger (EEA) y espectroscopia UV visible (UV-VIS). El espesor de las películas fue evaluado usando un perfilómetro mecánico. La rugosidad y las propiedades mecánicas, tales como dureza y módulo de elasticidad reducido, fueron analizadas mediante microscopía de fuerza atómica (MFA) y nanoindentación, respectivamente. Resumen en inglés In the present work Ti-Al-O thin films were synthesized by rf-sputtering technique on glass and silicon (Si) substrates using TiAl and Ti3Al targets in a sputtering chamber with an Ar-O2 atmosphere. Ti-Al-O thin films were obtained varying experimental parameters such as oxygen percent fed to the reaction chamber, plasma power density and substrate temperature. The films deposited on glass substrates were used to evaluate their optical properties, while those deposited on (mas) Si substrates were used to evaluate mechanical and morphological properties. The crystalline structure, morphology, chemical composition and optical properties of the films were evaluated by X-ray diffraction (XRD), high-resolution scanning electron microscopy (HR-SEM), Auger Electron Spectroscopy (AES) and Visible UV Spectroscopy (UV-VIS). Films thicknesses were measured using a profiler. The roughness and mechanical properties such as hardness and Young's modulus were analyzed by atomic force microscopy (AFM) and nanoindentation technique, respectively.

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Nitrogen incorporation effects in Fe(001) thin films

Menéndez, José Luis; Armelles Reig, Gaspar; Cebollada, Alfonso; Briones Fernández-Pola, Fernando; Peiró, F.; Güell, F.; Cornet, A.; Fernández Gubieda, M. L.; Gutiérrez, J.
2001-06-01

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Nitrided FeB amorphous thin films for magneto mechanical systems

Fernández-Martínez, Ivan; Martín-González, Marisol S.; González-Arrabal, Raquel; Álvarez-Sánchez, R.; Briones Fernández-Pola, Fernando; Costa Krämer, José Luis
2008-01-01

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Nanoestructuración de materiales magnéticos mediante aluminio anodizado.

Vázquez Villalabeitia, Manuel; Asenjo Barahona, Agustina; Oliveira Da Rosa, Wagner
2010-01-01

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Morphological and magnetic properties of Co nanoparticle thin films grown on Si3N4

Presa, B.; Matarranz, R.; Clavero, C.; García-Martín, J.M.; Calleja, J.F.; Contreras, M.C.

The morphological and magnetic properties of Co nanoparticles deposited by triode sputtering on Si3N4 at 550 °C are reported. The nominal thickness of Co ranges from 2 up to 15 nm, and two different capping layers, Au and Pt, are used. The nanoparticles were characterized by x-ray diffraction and ...

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Morphological and magnetic properties of Co nanoparticle thin films grown on Si3N4

Presa, B.; Matarranz, R.; Clavero, C.; García-Martín, José Miguel; Calleja, J. F.; Contreras, M. C.
2007-09-04

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39

Modelo del voltaje de descarga en depósitos de ZrO X por erosión iónica reactiva

García-Gradilla, V.; Soto-Herrera, G.; Machorro-Mejía, R.; Mitrani-Abenchuchan, E.
2009-04-01

Resumen en español Se presenta una aplicación del modelo de Berg para el depósito de películas delgadas de ZrO X por la técnica de erosión iónica reactiva. Se propone un tratamiento alternativo de dicho modelo, adaptándolo a un punto de vista ingenieril. El modelo de Berg en su forma original considera el envenenamiento del blanco como una fracción de cobertura de la superficie del blanco, la presión de depósito, los flujos de entrada y la velocidad de bombeo. En el tratamiento al (mas) ternativo que aquí se ejemplifica, todas estas cantidades -difíciles de medir en la practica - se reducen a considerar solamente variaciones en la caída de voltaje en el blanco y la impedancia del plasma, que juntos conforman el voltaje de descarga. La ventaja de este tratamiento es que puede ser usado fácilmente por un ingeniero de campo, sin conocimientos en ciencias de materiales, para controlar las propiedades de la película a depositar. Resumen en inglés A Berg model application for ZrO X thin film deposition by DC reactive sputtering is presented. An alternative treatment to this model is proposed, focused on an engineering point of view. Berg model involves target poisoning as a compound covering a fraction of the target surface, pressure, input flow and pumping speed. In the alternative treatment presented, all these quantities -some hard to be measured-are condensed by considering variations in the target voltage and (mas) plasma impedance, that together comprises the discharge voltage. The advantage of this handling is that can be easily used by a field engineer, without necessity of advanced knowledge in material science.

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Mo/Au Bilayers Deposited by Sputtering at Room Temperature for Transition Edge Sensors Fabrication

González-Arrabal, R.; Camón, Agustín; Parra-Borderías, María; Fàbrega, Lourdes; Anguita, José Virgilio; Sesé, Javier; Briones Fernández-Pola, Fernando
2008-01-25

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Microstructural and chemical characterisation techniques for nanostructured and amorphous coatings

Godinho, V.; Fernández-Ramos, C.; Martínez-Martínez, D.; García-López, F. J.; Sánchez López, Juan Carlos; Fernández Camacho, Asunción
2008-06-19

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Method for obtaining coatings by means of cathode sputtering and resulting coating

Fernández Camacho, Asunción; Fortio Godinho, Vanda Cristina
2010-10-28

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43

Metal carbide/amorphous C-based nanocomposite coatings for tribological applications

Sánchez López, Juan Carlos; Martínez-Martínez, D.; Abad Roldán, Manuel David; Fernández Camacho, Asunción
2009-01-01

Digital.CSIC (Spain)

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Mejoramiento de la resistencia a la corrosión del acero AISI 4140 utilizando multicapas de titanio/nitruro de titanio/ Corrosion resistance improvement of steel AISI 4140 by using a titanium/titanium nitride multilayer coating syste

Correa, Faber; Caicedo, Julio César; Aperador, William; Rincón, Carlos Alberto; Bejarano, Gilberto
2008-12-01

Resumen en español El acero 4140 se utiliza ampliamente en la fabricación de partes de máquinas con durezas entre 25-35 Rockwell C. Sin embargo, su vida útil se ve limitada por su baja resistencia al desgaste y a la corrosión. Con el fin de mejorar su comportamiento frente a la corrosión se depositaron multicapas de Titanio/Nitruro de Titanio (Ti/TiN) sobre substratos de acero 4140 mediante un sistema multi-blanco d.c. magnetrón sputtering a partir de un blanco de Ti de alta pureza (9 (mas) 9,99%) en una atmósfera deAR/N2. Con el objeto de estudiar el efecto del número de capas sobre la velocidad de corrosión de las películas depositadas, se crecieron multicapas con 1, 5, 10, 15, y 20 bicapas de [Ti /TiN], manteniendo un espesor total constante de 3 μm en todas ellas. Las fases existentes y composición química de los recubrimientos fueron analizados mediante espectroscopía de difracción de rayos X (XRD) y espectroscopía de energía dispersiva de rayos X (EDX) respectivamente. Las muestras de acero sin y con recubrimiento se caracterizaron además por Espectroscopía de Impedancia Electroquímica (EIS) y curvas de polarización Tafel. Se encontró que la velocidad de corrosión tuvo una disminución alrededor del 87% en el acero recubierto con 20 bicapas de Ti/TiN en comparación al acero sin recubrir y del 25% respecto a la muestra recubierta con 1 bicapa, lo cual evidencia el efecto positivo del incremento del período en las películas delgadas basadas en multicapas de Ti/TiN Resumen en inglés Steel 4140 is widely used for fabrication of machines components with hardness between 25 and 35 Rockwell C (HRC). However, life time of this steel is limited by its low wear and corrosion resistance. In order to enhance its corrosion behavior, multilayer of Ti/TiN were deposited onto 4140 steel samples by d.c. reactive magnetron sputtering using a high purity titanium target (99.9) in anAR/N2 atmosphere. With the purpose to study the influence of the layer number on the (mas) rate of corrosion of deposited films, multilayer of [Ti /TiN] were growth with 1, 5, 10, 15 and 20 bilayers and a 3 μm constant thickness for all samples. The grown phases and chemical composition were analyzed by x-ray diffraction spectroscopy (XRD), and energy dispersive X-ray spectroscopy (EDX) respectively. Additionally, the uncoated and coated steel samples were characterized using electrochemical impedance spectroscopy (EIS) and Tafel’s polarisation curves. A corrosion rate reduction of approximately 87% was found for the steel sample coated with 20 bilayers of Ti/TiN compared with the uncoated, and of 25% related to the sample coated with 1 bilayer. This evidences the positive effect of the period increase of the multilayered Ti/TiN thin films on their corrosion resistance.

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46

Mechanical behavior and oxidation resistance of Cr(Al)N coatings

Sánchez López, Juan Carlos; Martínez-Martínez, D.; López Cartes, C.; Fernández Camacho, Asunción; Brizuela, M.; García Luis, A.; Oñate, J. I.
2005-06-21

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47

Magneto-optical spectra of long range chemically ordered FePd(001) alloy films

Armelles Reig, Gaspar; Weller, D.; Rellinghaus, B.; Caro, P.; Cebollada, Alfonso; Briones Fernández-Pola, Fernando
1997-01-01

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48

Magnetization reversal asymmetry in Fe/MgO (001) thin films

Costa Krämer, José Luis; Menéndez, José Luis; Cebollada, Alfonso; Briones Fernández-Pola, Fernando; García, D.; Hernando, A.
2000-02-01

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49

Magnetization reversal and magnetic anisotropies in epitaxial Fe/MgO and Fe/MgO/Fe heterostructures grown on Si(001)

Martínez Boubeta, C.; Cebollada, Alfonso; Calleja, J. F.; Contreras, M. C.; Peiró, F.; Cornet, A.
2003-02-15

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50

Magnetic proximity effect in Fe/Pt/Nb multilayers

Vélez, M.; Martínez Boubeta, C.; Cebollada, Alfonso; Briones Fernández-Pola, Fernando; Vicent, J. L.
2002-02-01

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51

Magnetic dynamics of Co Nanospheres: origin of the enhanced anisotropy.

Bartolomé, Juan; Bartolomé, Fernando; García, L. M.; Luis, F.; Petroff, F.; Cros, V.; Jaffrès, H.; Vaurès, A.
2006-05-26

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52

Magnetic behavior of an array of cobalt nanowires

García, J. M.; Asenjo, A.; Velázquez, J.; García, D.; Vázquez Valero, Manuela; Aranda Gallego, María Pilar; Ruiz Hitzky, Eduardo
1999-04-15

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53

Large magnetoresistance in Fe/MgO/FeCo(001) epitaxial tunnel junctions on GaAs(001)

Bowen, M.; Cros, V.; Petroff, F.; Fert, A.; Martínez Boubeta, C.; Costa Krämer, José Luis; Anguita, José Virgilio; Cebollada, Alfonso; Briones Fernández-Pola, Fernando; Teresa, J. M. de; Morellón, L.; Ibarra, M. R.; Güell, F.; Peiró, F.; Cornet, A.
2001-09-10

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55

LEED-IV study of the rutile TiO2(110)-1x2 surface with a Ti-interstitial added-row reconstruction

Blanco-Rey, María; Abad, José; Rogero, Celia; Méndez, Javier; López, María Francisca; Román García, Elisa Leonor

4 pages, 2 figures, 1 table.-- PACS nrs.: 61.14.Hg; 68.35.Bs; 68.47.Gh. | Upon sputtering and annealing in UHV at 1000 K the rutile TiO2(110) surface undergoes a 1x1 --> 1x2 phase transition. The resulting 1x2 surface is Ti rich, formed by strands of double Ti rows as seen on scanning tunneling micr...

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56

LEED-IV study of the rutile TiO2(110)-1x2 surface with a Ti-interstitial added-row reconstruction

Blanco-Rey, María; Abad, José; Rogero, Celia; Méndez, Javier; López, María Francisca; Román García, Elisa Leonor; Martín Gago, José Ángel; Andrés Rodríguez, Pedro Luis de
2007-02-09

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57

Influencia del Flujo de Nitrógeno en la Estructura, Dureza y Resistividad de Recubrimientos de TiSiNO/ Influence of Nitrogen Flow on the Structure, Hardness and Resistivity of TiSiNO Coatings

García, Leandro; Hernández, Julián; Mendoza, Claudia O; Garnica, María G
2009-01-01

Resumen en español Recubrimientos de TiSiNO fueron fabricados por la técnica de erosión catódica reactiva por corriente directa sobre sustratos de acero y silicio, utilizando un blanco de Ti y una pequeña placa de Si sobre una atmósfera reactiva de nitrógeno, oxigeno y argón. Usando el método de Warren-Averbach se analizaron los cambios estructurales de las muestras en función de la variación del flujo de nitrógeno. Cálculos estequiométricos, obtenidos de la técnica de espectr (mas) oscopia de energía dispersada y corroborados por espectroscopia de descarga luminiscente, muestran que los recubrimientos se encuentran en la región de solución sólida de TiSi xN(Oy) y SiNxOy, dominando la fase del oxinitruro de titanio. La muestra fabricada sobre sustratos de acero y silicio a un flujo de nitrógeno de 3 sscm, presentó el valor de dureza más alto y el valor de resistividad más bajo, respectivamente, debido a su estructura, orientación cristalina preferencial y fases cristalinas presentes en ella Resumen en inglés Coatings of TiN and TiSiN were prepared by reactive direct current magnetron co-sputtering on steel and on silicon substrates, using a Ti target and a small Si plate in a reactive atmosphere of nitrogen, oxygen and argon. Using the Warren-Averbach method the structural changes were analyzed in function of the variation of the nitrogen flow. Stoichiometry calculations obtained by X-ray Energy Dispersive Spectroscopy and corroborated by Glow Discharge Spectroscopy, show tha (mas) t the TiSiNO coatings contain two solid solutions of TiSi xN(Oy) and SiNxOy and have a strong domain on titanium oxynitrure phase. The sample made on steel and silicon wafers substrates with nitrogen flow of 3 sscm, presented the highest hardness and the lowest resistivity values, respectively, due to its preferential crystalline orientation, structure and crystalline phases present

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58

Influence of the substrate bias voltage on the crystallographic structure and surface composition of Ti6A14V thin films deposited by rf magnetron sputtering

Alfonso, J. E.; Torres, J.; Marco, José Francisco

In this work, the influence of the substrate bias on the crystalline structure and surface composition of Ti6Al4V thin films prepared by rf magnetron sputtering were studied. Samples were grown onto two different types of substrates: AISI 420 steel and common glass using a Ti6Al4V (99.9 %) target. S...

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60

Influence of the interfaces on the anisotropic magnetoresistance of Ni/Co multilayers

Lesmes, Felipe; Salcedo, A.; Freijo, J. J.; García, D.; Hernando, Antonio; Prados, C.
1996-10-21

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61

High frequency and magnetoelectrical properties of magnetoresistive memory element based on FeCoNi/TiN/FeCoNi film

Vázquez Valero, Manuela; Kurlyandskaya, G. V.; Barandiarán, J. M.; García-Miquel, H.; Vas’kovskiy, V. O.; Svalov, A. V.
2000-08-01

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62

Ferromagnetism in wide band gap materials: Mn-ZnO and Mn-Si3N4 thin films.

Prieto de Castro, Carlos; Céspedes Montoya, Eva
2010-01-01

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63

Fabrication and properties of ac-dc superconducting rectifier

González, E. M.; Villegas, J. E.; González, M. P.; Anguita, José Virgilio; Vicent, J. L.
2005-06-13

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64

Estudio para la recuperación de herramientas recubiertas con nitruro de cromo mediante ensayos galvanostáticos

Cristóbal, A. B.; Conde, A.; Rodríguez, R.; Fuentes, G. G.; Carreras, L.; Damborenea, Juan de
2006-04-30

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65

Estudio del comportamiento de películas delgadas de Ni y óxido de Ni obtenidas por espurreo catódico frente a un medio amargo

Magaña-Zavala, C. R; Rodríguez-Gómez, F. J; Acosta, D. R; Genescá, J; Ávila-Godoy, R
2006-05-01

Resumen en español En este trabajo se presenta el estudio del comportamiento de películas delgadas de níquel y un óxido superior de níquel obtenidas por espurreo catódico sobre acero AISI 1018 (UNS G 10180), con el propósito de disminuir la velocidad de corrosión del acero al carbón cuando se expone a un medio amargo (presencia de ácido sulfhídrico y cloruros) y obtener una protección anticorrosiva eficaz. La caracterización de las superficies se realizó a través de técnicas electroquímicas[l] (curvas de polarización y espectroscopia de impedancia electroquímica). Resumen en inglés The aim of this work is to study the behavior of nickel and nickel oxide thin films obtained by cathodic sputtering on steel AISI 1018 (UNS G 10180), with the purpose of diminishing the corrosion rate of low carbon steel, when it is exposed to a sour medium, and to obtain an efficient anticorrosive protection. The characterization of the surfaces was carried out by electrochemical techniques, such polarization curves and electrochemical impedance spectroscopy.

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66

Estudio de la corrosión del cobre por vapores de ácido acético al 40 y 80 % de humedad relativa

Cano Díaz, Emilio; Simancas Peco, Joaquín; Narváez, L.; Bastidas Rull, José María
2004-03-01

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67

Epitaxial Fe/MgO heterostructures on GaAs(0 0 1)

Martínez Boubeta, C.; Navarro, E.; Cebollada, Alfonso; Briones Fernández-Pola, Fernando; Peiró, F.; Cornet, A.
2001-06-01

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68

Enhancement of the magnetic anisotropy of Co clusters by Au capping.

Luis, F.; Bartolomé, Juan; Bartolomé, Fernando; Martínez, M. J.; García, L. M.; Petroff, F.; Deranlot, C.; Wilhelm, F.; Rogalev, A.
2006-04-26

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69

Enhanced and oscillatory magnetoresistance of thin Fe(001) films

Martínez-Boubeta, C.; Balcells, LL.; Cebollada, Alfonso

We have studied the magnetoresistance of single-crystalline (001) Fe films prepared by sputtering techniques and covered by epitaxial MgO or Pt protective layers. The influence of the thickness of the magnetic layer as well as of the nature of the capping layer on the Fe anisotropic magnetoresistanc...

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70

Enhanced and oscillatory magnetoresistance of thin Fe(001) films

Martínez Boubeta, C.; Balcells Argemi, Lluis; Cebollada, Alfonso
2006-03-29

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71

Effects of Stress and Morphology on the Resistivity and Critical Temperature of Room-Temperature-Sputtered Mo Thin Films

Fàbrega, Lourdes; Fernández-Martínez, Ivan; Parra-Borderías, María; Gil, Óscar; Camón, Agustín; González-Arrabal, Raquel; Sesé, Javier; Santiso, José; Costa Krämer, José Luis; Briones Fernández-Pola, Fernando
2009-09-04

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73

Desarrollo y propiedades de recubrimientos nanocomposities lubricantes

Martínez-Martínez, D.; López-Cartes, C.; Sánchez-López, J.C.; Fernández, A.
2006-01-01

Resumen en español El desarrollo de recubrimientos que combinen propiedades de alta dureza con bajos valores de fricción y desgaste constituye un área de investigación de notable interés por su impacto en la mejora del rendimiento de multitud de piezas y herramientas que se utilizan en operaciones industriales tales como corte, mecanizado, etc. En este trabajo se presentan los resultados conseguidos a partir de nuevos sistemas nanoestructurados lubricantes formados por nanocristales de (mas) una fase dura (nc-TiC) que se integran dentro de una masa de material amorfo de bajo coeficiente de fricción (a-C). La síntesis se ha realizado mediante la técnica de "magnetron sputtering" a partir de blancos de Ti y grafito. La caracterización microestructural y química de los recubrimientos se ha llevado a cabo por microscopía electrónica de transmisión (TEM), difracción de rayos X (XRD), espectroscopía de fotoelectrones de rayos X (XPS), microscopía de fuerzas atómicas (AFM) y espectroscopía de pérdida de energía de electrones (EELS). Las propiedades tribológicas se han estudiado a temperatura y humedad ambientales utilizando un tribómetro pin-on-disk con acero como antagonista a presiones de contacto de ~1 GPa. Controlando las condiciones de síntesis se pueden conseguir rangos de fricción (0,1 a 0,4) y durezas (7-27 GPa) con razonables tasas de desgaste (k~10-7 mm³/Nm). El estudio de la relación existente entre la microestructura, composición química y las propiedades medidas nos permitirá la optimización de tales sistemas nanoestructurados para su mejor aprovechamiento tecnológico. Resumen en inglés The development of coatings which combine high hardness and low values of friction and wear is an interesting research area due to the improvement of the performance of many pieces and tools used in industrial processes, such as casting, cutting, etc. In this work we present the results obtained from novel lubricant nanostructured systems formed by nanocrystals of a hard phase (nc-TiC) embedded in a low-friction amorphous matrix (a-C). Synthesis was performed by magnetron (mas) sputtering of Ti and C targets. Chemical and miscrostructural characterization were carried out by transmission electron microscopy (TEM), X-ray diffraction (XRD), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), atomic force microscopy (AFM), and electron energy loss spectroscopy (EELS). Tribological properties were studied at ambient environmental conditions by means of a pin-on-disk tribometer employing steel as counterpart at Hertzian pressures of ~1 GPa. Depending on synthesis conditions, friction (0,1 to 0,4) and hardness (7-27 GPa) values can be achieved at moderate wear rates (k~10-7 mm³/Nm). The study of the relationship among microstructure, chemical composition and tribo-mechanical properties allows us the optimization of these nanostructured systems to improve the technological applications.

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75

Depósito de TiN sobre herramientas de corte para uso industrial

Auger, M. A.; Sánchez Garrido, Olga; Albella Martín, José María
2004-03-01

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76

DESARROLLO DE UN MÉTODO PARA LA DETERMINACIÓN DE ESFUERZOS RESIDUALES EN PELÍCULAS UTILIZANDO DIFRACCIÓN DE RAYOS-X DISPERSIVO EN ENERGÍA.

Alfonso, J. A; Lavelle, B; Greaves, E.D; Sajo-Bohus, L
2002-06-01

Resumen en español Se presente un método sencillo y fácil de reproducir para la determinación de esfuerzos residuales en películas y recubrimientos finos, utilizando difracción de rayos-x dispersivo en energía. El sistema consiste de un generador de rayos-x convencional, un goniómetro con aditamento de textura por el método de Schultz y un detector de estado sólido de alta resolución de Ge de alta pureza conectado a un espectrómetro de rayos-x. El procedimiento fue utilizado para (mas) evaluar el esfuerzo residual de una película de Ni depositada vía "sputtering" con magnetrón sobre grafito multicristalino Resumen en inglés A simple and easy of reproducing procedure that allows fine coatings and films residual stress determination using energy dispersive x-ray diffraction is shown. The system consists of a conventional x-ray generator, a texture goniometer and a high-resolution solid state HP Ge detector connected to an x-ray spectrometer. The residual stress in a magnetron sputtered Ni film on polycrystalline graphite is determined using this approach.

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77

DEFORMACIÓN ELÁSTICA RESIDUAL EN LÁMINAS DE ACERO AISI 304 RECUBIERTAS CON UNA PELÍCULA DE NITRURO DE TITANIO DEPOSITADA POR PVD-MAGNETRON SPUTTERING/ RESIDUAL ELASTIC STRAIN OF AISI 304 STAINLESS STEEL SHEETS COVERED WITH A TITANIUM NITRIDE THIN FILM DEPOSITED BY PVD-MAGNETRON SPUTTERING

COLORADO, H. A.; SALVA, H. R.; GHILARDUCCI, A. A.
2009-12-01

Resumen en español se realizó una caracterización mediante difracción de rayos x (DRX) en láminas de acero inoxidable AISI 304 recubierto con una capa de nitruro de titanio de 3 mm de espesor, obtenida mediante deposición física de vapor (PVD-magnetron sputtering) a una temperatura de 200 ˚C. se tomaron imágenes de microscopía electrónica de barrido (MEB), microscopía óptica (MO) y microscopía de fuerza atómica (MFA) para caracterizar el sustrato, la capa y la zona cercana (mas) a la intercara. adicionalmente se determinó la deformación elástica residual asociada con el ensanchamiento de los picos de DRX. Resumen en inglés X Ray Diffraction characterization was carried out on AISI 304stainless steel sheets covered with a 3mm thick titanium nitride film. The deposition technique used was PVD-Magnetron Sputtering at 200 ˚C. The resulting microstructures of the substrate, the film and the interface were studied by Optical Microscopy (OM), Scanning Electron (SEM) and Atomic Force (AFM) Microscopes. Residual elastic strain associated with the X- ray diffraction (XRD) broadening peaks was also determined.

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78

DC triode sputtering deposition and characterization of N-rich copper nitride thin films: Role of chemical composition

Gordillo, Nuria; González-Arrabal, Raquel; Martín-González, Marisol S.; Olivares, J.; Rivera, Antonio; Briones Fernández-Pola, Fernando; Agulló-López, F.; Boerma, D. O.
2008-09-01

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79

Compositional, structural and morphological modifications of N-rich Cu3N films induced by irradiation with Cu ions at 42 MeV

Gordillo, N.; Rivera, Antonio; Grötzschel, R.; Munnik, F.; Güttler, D.; Crespillo, M. L.; Agulló-López, F.; González-Arrabal, Raquel
2010-08-09

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80

Composition and morphology of metal-containing diamond-like carbon films obtained by reactive magnetron sputtering

Corbella, C.; Pascual, E.; Oncins, G.; Canal, Cristina; Andújar, J. L.; Bertrán, Enric
2005-01-06

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81

Coercivity analysis in sputtered Sm–Co thin films

Prados, C.; Hernando, Antonio; Hadjipanayis, G. C.; González Fernández, Jesús María
1999-04-15

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82

Cobalt nanoparticles deposited and embedded in AlN: Magnetic, magneto-optical, and morphological properties

Huttel, Y.; Gómez, H.; Clavero, C.; Cebollada, Alfonso; Armelles Reig, Gaspar; Navarro, E.; Ciria, M.; Benito, L.; Arnaudas, J. I.; Kellock, A. J.
2004-08-01

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83

Capping layer effects in the structure and composition of Co nanoparticle ultrathin films

Arbiol, J.; Peiró, F.; Cornet, A.; Clavero, C.; Cebollada, Alfonso; Armelles Reig, Gaspar; Huttel, Y.
2005-01-12

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84

Calentador de sustratos compacto y de bajo costo para tratamiento térmico in situ de películas delgadas depositadas por rf-sputtering

Márquez-Herrera, A.; Hernández-Rodríguez, E.; Cruz-Jáuregui, M.P.; Zapata-Torres, M.; Zapata-Navarro, A.
2010-02-01

Resumen en español En este trabajo se presenta el diseño y construcción de un calentador de sustratos de bajo costo, el cual es capaz de operar en sistemas de alto vacío. Su utilización se centra en proporcionar tratamiento térmico in-situ durante el crecimiento de películas delgadas bajo condiciones de presión controlada y atmósfera corrosiva. El calentador fue construido principalmente de acero inoxidable, cerámica y una resistencia comercial de khantal-A1. El cuerpo del horno es (mas) enfriado usando un sistema de aletas y líquido refrigerante, el cual se encuentra completamente aislado de la cámara de depósito. El diseño del calentador también incorpora un sistema de rotación que permite que el sustrato gire durante el proceso de crecimiento proporcionando uniformidad a la película. La temperatura del sustrato es monitoreada mediante un termopar tipo "K" que retroalimenta a un controlador de temperatura, el cual modula una fuente de poder variable que suministra el voltaje a la resistencia. Con el propósito de evaluar la funcionalidad del sistema de calentamiento, éste se montó en un equipo de rf-sputtering y se crecieron películas delgadas de BaTiO3 con distintas temperaturas de sustrato en una geometría off-axis. El sistema de tratamientos térmicos in-situ es capaz de proveer una temperatura uniforme al sustrato así como de operar por largos periodos de tiempos. Resumen en inglés In this work we present the design, construction and the evaluation of a low cost substrate heater for working at high vacuum. Its use concentrates in providing in-situ annealing during the growth of thin films under conditions of controlled pressure and corrosive atmosphere. The heater was constructed mainly of stainless steel, ceramic and a resistance of khantal-Al. The body of the heater is cooled using a system of fins and cooling liquid which is isolated completely o (mas) f the vacuum chamber. The design of the heater also incorporates a rotation system that allows that the substrate turns during the process of growth providing uniformity to the film. Temperature of the substrate is recorded by a type "K" thermocouple which feeds back a temperature controller that provides a modulated voltage to the heating resistance. In order to evaluate the functionality of the heating system, this was mounted in a rf-sputtering equipment and thin films of BaTiO3 were grown under different substrate temperatures in an off-axis geometry. The heating system is able to provide an uniform temperature to the substrate as well as to operate by long periods of times.

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85

CNA: The first accelerator-based IBA facility in Spain

García López, Francisco Javier; Ager, Francisco José; Barbadillo, M.; Madrigal, F. J.; Ontalba, Maria Ángeles; Respaldiza, Miguel Ángel; Ynsa, M. D.
2000-03-01

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86

Buffer layer morphology effects on the ordering of epitaxial FePd(001) thin films

Caro, P.; Cebollada, Alfonso; Ravelosona, D.; Tamayo, Javier; García García, Ricardo; Briones Fernández-Pola, Fernando
1998-01-01

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87

Bonding structure and mechanical properties of Ti-B-C coatings

Abad Roldán, Manuel David; Cáceres, Daniel; Pogozhev, Yury S.; Shtansky, Dmitry V.; Sánchez López, Juan Carlos

17 pages | Nanocomposite coatings combining hard phases (TiB2, TiC) with amorphous carbon (a-C) were developed to provide a good compromise between mechanical and tribological properties for M2 steels used in a wide variety of applications such as cutting tools, bearings and gear mechanisms. A combi...

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88

Bonding structure and mechanical properties of Ti-B-C coatings

Abad Roldán, Manuel David; Cáceres, Daniel; Pogozhev, Yury S.; Shtansky, Dmitry V.; Sánchez López, Juan Carlos
2009-01-01

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89

Bonding and hardness in nonhydrogenated carbon films with moderate sp3 content

Gago, Raul; Jiménez Guerrero, Ignacio; Albella Martín, José María; Climent-Font, A.; Cáceres, D.; Vergara, I.
2000-06-01

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90

Anisotropy, hysteresis, and morphology of self-patterned epitaxial Fe/MgO/GaAs films

Cebollada, F.; Hernando-Mañeru, A.; Hernando, A.; Martínez Boubeta, C.; Cebollada, Alfonso; González, J. M.
2002-11-07

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92

A structural characterization of the buffer layer for growth of magnetically coupled Co/Cu superlattices

Martínez-Albertos, J. L.; Camarero, Julio; García, Jorge M.; Pastor, C. J.; Gallego, J. M.; Limones, C.; Prieto, J. E.; Vázquez de Parga, A. L.; Figuera, J. de la; Ocal, C.; Miranda, Rodolfo
1993-03-02

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