Sample records for COMPONENTES DEL REACTOR (reactor components)
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Procesos de grabado seco de silicio monocristalino con alta velocidad de grabado y anisotropía para su aplicación en la fabricación de MEMS

Álvarez-Macías, C.; Reyes-Betanzo, C.
2007-12-01

Resumen en español Se presentan los resultados experimentales del grabado seco de silicio monocristalino para su aplicación en la fabricación de sistemas microelectro-mecánicos (MEMS) utilizando un reactor RIE/ICP. Se analizó la contribución de las componentes física y química sobre la velocidad y perfil de grabado respecto a la variación de la presión, bombardeo iónico, flujo, tipo y mezcla de gases, y distancia a la región de plasma denso. El principal gas reactivo empleado fue (mas) SF6 en mezcla con Ar, O2 o CF4. Se utilizaron enmascarantes de fotorresina, dióxido de silicio y aluminio. Se obtuvieron velocidades de grabado anisótropo de hasta 4 µm/min con enmascarante de SiO2y velocidad de grabado isótropo de hasta 13 µm/min con enmascarante de Al, ambos en plasma de SF6/O2. Perfiles de grabado verticales se observaron cuando el voltaje de autopolarización es el más alto, y el material enmascarante presentó un fuerte efecto sobre los resultados obtenidos. Resumen en inglés The results of dry etching of monocrystalline silicon for microelectro-mechanical systems (MEMS) applications by using a RIE/ICP system are shown. The contribution of the physical and chemical components over the etch rate and etch profile was analized by the variation of the pressure, ion bombardment, flux, type and gas mixture; and over the distance of the dense plasma. The main reactive gas used was SF6 in mixture with Ar, O2 o CF4. Masking materials of photoresist, si (mas) licon dioxide, and aluminum were used. Anisotropic etch rates up to 4 µm/min with SiO 2 as masking material, and isotropric etch rates up to 13 µm/min with Al as masking material were obtained, both in SF6/O2 plasma. Vertical etch profiles were observed when the self-bias voltage is the highest, and the masking material presented a strong effect over the obtained results.

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Modelado de un gasificador estratificado de lecho móvil de biomasa, utilizando CFD/ CFD Modelling of an Open Core Downdraft Moving Bed Biomass Gasifier

Rogel-Ramírez, A.
2008-12-01

Resumen en español Este estudio describe un modelo numérico bidimensional, basado en Dinámica de Fluidos Computacional (CFD), desarrollado para simular el flujo y las reacciones que ocurren en un gasificador estratificado de flujos paralelos, en el que se resuelven ecuaciones de conservación Eulerianas para los componentes de la fase gaseosa, la fase sólida, velocidades y entalpías específicas. El modelo está basado en el código PHOENICS y representa una herramienta que puede ser ut (mas) ilizada en el análisis y diseño de gasificadores. En las reacciones globales homogéneas se consideran las contribuciones de la cinética química y la rapidez de mezclado, usando el modelo Eddy Brake-UP (EBU). La media harmónica de la cinética química y la transferencia de masa, determinan las velocidades globales de las reacciones heterogéneas entre el carbón activo y O2, CO2 y H2O. El efecto de la turbulencia en la fase gaseosa se determina usando el modelo k-s. El modelo proporciona información de la composición del gas, velocidades y temperaturas de salida y el comportamiento del reactor, y permite cambiar los parámetros de operación, y las propiedades de la alimentación. Finalmente, se comparan los valores predichos por el modelo con datos disponibles en la literatura, mostrando congruencia satisfactoria desde un punto de vista cualitativo. Resumen en inglés This paper contains the description of a bidimensional Computacional Fluid Dynamics (CFD), model developed to simulate the flow and reaction in a stratified downdraft biomass gasifier, whereby Eulerian conservation equations are solved for particle and gas phase components, velocities and specific enthalpies. The model is based on the PHOENICS package and represents a tool which can be used in gasifier analysis and design. Contributions of chemical kinetic and the mixing (mas) rate using the EBU approach are considered in the gas phase global homogeneous reactions. The harmonic blending of chemical kinetics and mass transfer effects, determine the global heterogeneous reactions between char and O2, CO2, and H2O. The turbulence effect in the gas phase is accounted by the standard k-s approach. The model provides information of the producer gas composition, velocities and temperature at the outlet, and allows different operating parameters and feed properties to be changed. Finally, a comparison with experimental data available in literature was done, which showed satisfactory agreement from a qualitative point of view, though further validation is required.

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Empleo de una sonda infrarroja in situ para monitorear reacciones de esterificación/ Using an infrared probe for in situ monitoring of esterifying reactions

Sánchez C., Francisco J.; Cesteros, Carlos; Katime, Issa A.
2006-04-01

Resumen en español Se empleó un reactor batch (por lotes), dotado de tres detectores: pH, Sonda IR y operación en continuo, de tal forma que puede operarse como un reactor CSTR. En la medida en que la esterificación procede, decrecen las bandas correspondientes al grupo -COOH del ácido carboxílico y la del grupo C-OH del alcohol, presentándose al mismo tiempo incremento en la banda del grupo -COOR del éster que se está formando. El progreso de la reacción se puede seguir por el reg (mas) istro continuo de los espectro IR. La banda correspondiente a H-O-H del agua no se puede seguir ya que se requiere de un ambiente absolutamente anhidro para hacerlo. De otro lado, por aparte pueden prepararse soluciones patrones para poder cuantificar la intensidad de los picos en el espectro IR, según la composición del componente en la mezcla. Sin embargo, cuando se presentan cambios de fase en la mezcla reactiva, este método no puede emplearse para seguir el curso de una reacción, ya que se presenta una variación muy aleatoria en la señal de intensidad de los picos. Resumen en inglés A batch reactor was employed having pH meter, IR probe and continuous operation detectors so that it could work as a CSTR reactor. As esterification advanced, then IR bands corresponding to the carboxyl acid COOH group and the alcohol C-OH group decreased whilst a parallel increase was presented in the ester -COOR group band which was forming. Reaction progress could be observed by continuous IR spectrum registration. The IR band for HOH (water) could not be studied becau (mas) se it needed a completely anhydrous medium for doing so. Standard solutions could be prepared for quantifying IR band peak intensity, according to a component’s composition in the mixture. However, when phase changes occurred in the reaction mixture, this method could not be employed for following the course of a particular reaction because random variation was detected in band intensity.

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Treatment technologies of liquid and solid wastes from two-phase olive oil mills

Borja Padilla, Rafael; Raposo Bejines, Francisco; Rincón, Bárbara
2006-03-31

Digital.CSIC (Spain)

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Proceso de grabado seco de silicio monocristalino para aplicaciones en guías de onda coplanares

Leal-Romero, R.; Zaldivar-Huerta, I.E.; Reynoso-Hernández, J.A.; Reyes-Betanzo, C.; Maya-Sánchez, M.C.; Aceves-Mijares, M.
2010-02-01

Resumen en español En este trabajo se estudia la utilización de grabado anisotrópico y SRO con la finalidad de mejorar el rendimiento de las guías de onda coplanares. Se presentan resultados experimentales de grabado seco de silicio monocristalino para su aplicación en la fabricación de guías de onda coplanares (CPW's) empleando un reactor RIE/ICP. Se observa la contribución de los componentes tanto físicos como químicos de grabado seco. Los gases reactivos que se utilizan son el h (mas) exafluoruro de azufre (SF6) mezclado con oxígeno (O2). Para el grabado se emplean enmascarantes de fotorresina (FR) y óxido de silicio (SiO2), este último es obtenido mediante depósito químico en fase vapor a presión atmosférica (APCVD). Se obtienen velocidades de grabado de 2.8 a 3.4 µm/min al utilizar SiO2 como enmascarante. Resumen en inglés In this work, the anisotropic etching and the use of silicon rich oxide (SRO) are studied in order to improve the waveguide coplanar (CPW). Experimental results of dry etching of mono-crystalline silicon for application in CPW's using RIE/ICP reactor are presented. The contribution of the physical as much chemical components of dry etching is observed. The reactive gases that are used are Sulfur hexafluoride (SF6) mixed with oxygen (O2). For etching the silicon masks of p (mas) hoto-resist and silicon oxide (SiO2) are used, this last one is obtained by atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD). Speed of etching from 2.8 to 3.4 µm/min are obtained when using SiO2 as mask.

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Procedimiento de obtención de hidroxitirosol a partir de hueso de aceituna

Fernández Bolaños, Juan; Heredia Moreno, Antonia; Brenes Balbuena, Manuel; Guillén, Rafael; Rodríguez Arcos, Rocío; Felizón Becerra, Blanca
2001-02-01

Digital.CSIC (Spain)

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Presence of opportunistic oil-degrading microorganisms operating at the initial steps of oil extraction and handling

Sánchez, Olga; Ferrera, Isabel; Vigués Frantzen, Núria; García de Oteyza, Tirso; Grimalt, Joan O.; Mas Gordi, Jordi
2006-06-01

Digital.CSIC (Spain)

8

Method and device for measuring the power dissipated by a Hydridation reaction in tubes and tubular claddings and the corresponding variation in electric resistance

Sacedón Adelantado, José Luis; Díaz Muñoz, Marcos; Moya Corral, José Serafín; Remartínez Zato, Begoña; Izquierdo Gómez, Jaime
2005-08-18

Digital.CSIC (Spain)

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Crotonaldehyde Hydrogenation on Rh/TiO2 catalysts. In situ DRIFTS studies

Reyes, P.; Melián-Cabrera, I.; López Granados, M.; García Fierro, José Luis; Aguirre, Mª del Carmen
2001-10-01

Digital.CSIC (Spain)

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Beta-decay total absorption spectroscopy measurements for reactor decay heat calculations

Taín, José Luis; Algora, Alejandro; Jordán Martín, Mª Dolores
2010-03-29

Digital.CSIC (Spain)