Sample records for DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR (chemical vapor deposition)
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1

Estudio de la Factibilidad de formación de Estudio de la Factibilidad de formación de Recubrimientos Protectores por CVD en Lecho Fluidizado Sobre la Aleación de Titanio

Pérez, Francisco J; Lira-Olivares, Joaquín; Hierro, María P.; Tirado, Jesús
2005-01-01

Resumen en español Se  ha estudiado la factibilidad de la formación de recubrimientos protectores de aluminio por deposición química en fase vapor por reactor de lecho fluidizado (CVD-FBR) sobre la aleación de titanio Ti-15Mo-3Al.  Antes de realizar los experimentos, se utilizaron los cálculos termoquímicos del sistema  usando el método de minimización de energía libre por el software HSC Chemistry, como factor de diseño de las condiciones al recubrir  la aleación de titanio (mas) con  Al. Los recubrimientos fueron caracterizados por análisis morfológico superficial y de la sección transversal a través  de microscopía electrónica de barrido (SEM) empleando espectroscopia de dispersión de energía  (EDS), mapa de distribución de los elementos y difracción de rayos-X. Se encontró que para las condiciones de H2/HCl=31/1 y H2/HCl=15/1, respectivamente, ambas  durante una hora, a una temperatura de 395ºC, la aleación de titanio Ti-15Mo-3Al presenta una  capa de aluminio muy  delgada. Los espesores de las capas de aluminio obtenidas para las relaciones de gases de H2/HCl=31/1 y H2/HCl=15/1 son de 0,58 y 0,87mm respectivamente. De acuerdo a estos resultados, el uso de CVD-FBR es viable para el proceso de deposición de aluminio sobre la aleación de titanio Ti-15Mo-3Al. Resumen en inglés The feasibility of the formation of aluminum protective coatings by chemical vapor deposition in fluidized bed reactor (CVD-FBR) on the titanium alloy Ti-15Mo-Al and the influence of temperature and gas molar relation on the deposition process have been studied.  Before performing the experiments, thermochemical calculations were attained using the free-energy minimization method provided by the HSC Chemistry software, as a designing factor of conditions to deposition of (mas) Al on titanium alloy. Scanning electron microscopy (SEM), energy dispersive spectroscopy (EDS), mapping elements and -X-Ray diffraction have been employed to characterize the coatings obtained. For conditions of H2/HCl=31/1 and H2/HCl=15/1, both at 395ºC for one hour, the titanium alloy Ti-15Mo-Al exhibits a very thin aluminum layer. The thicknesses of the aluminum layers are 0.58 and 0.87mm for gas relations of H2/HCl=31/1 and H2/HCl=15/1 respectively. According to these results, the CVD-FBR is viable for the process of aluminum deposition on y the titanium alloy Ti-15Mo-Al.

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Síntesis de nopol a partir de β-pineno y aceite de trementina con el catalizador Sn-MCM-41/ Nopol synthesis from β-pinene and turpentine oil over Sn-MCM-41

Alarcón Durango, Edwin; Villa de P., Aída Luz; Montes de Correa, Consuelo
2006-03-01

Resumen en español Se obtuvo nopol mediante la reacción de Prins por condensación de β-pineno y paraformaldehído usando el catalizador Sn-MCM-41. El catalizador se sintetizó por deposición química al vapor de una sal precursora de Sn sobre MCM-41. Las reacciones se realizaron partiendo de β-pineno de alta pureza o aceite comercial de trementina. Se evaluó el efecto de varios parámetros en la selectividad a nopol, tales como: la carga de Sn en el catalizador, la cantidad de (mas) solvente y catalizador, la temperatura y el tiempo de reacción. Los catalizadores se caracterizaron por DRX, IR, UV-VIS, absorción atómica y área superficial BET. Usando Sn-MCM-41 con bajas cargas de Sn se alcanzaron rendimientos a nopol cercanos a 100% con β-pineno de alta pureza. Partiendo de trementina como fuente de β-pineno y relaciones equimolares de reactivos, se alcanzaron selectividades a nopol hasta del 93%. Resumen en inglés Nopol was obtained by the Prins condensation of β-pinene and paraformaldehyde over Sn-MCM-41. The catalyst was synthesized by chemical vapor deposition using a Sn salt over MCM-41. Reactions were carried out using either high purity β-pinene or turpentine oil as a starting material. The effect of catalyst Sn loading, temperature, type of solvent, catalyst amount, and reaction time on nopol selectivity was studied. Catalyst samples were characterized by XRD, IR, (mas) UV-VIS, elemental analysis and BET surface area. Low Sn loaded Sn-MCM-41 yields near 100% nopol with high purity β-pinene; whereas using turpentine as β-pinene source, nopol selectivities up to 93% were attained for equimolar ratios of reactants.

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3

Type of plasmas and microstructures of TiO2 thin films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition

Borrás Martos, Ana Isabel; Cotrino, José; González-Elipe, Agustín R.
2007-10-22

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Thermal Decomposition of Ferrocene as a Method for Production of Single-Walled Carbon Nanotubes without Additional Carbon Sources

Barreiro, Amelia ; Hampel, Silke ; Rümmeli, Mark H. ; Kramberger, Christian ; Grüneis, Alexander ; Biedermann, Kati

5 pages, 5 figures.-- Printed version published Oct 26, 2006. | A new method to grow bulk quantities of single-walled carbon nanotubes (SWCNTs) by a catalytic chemical vapor deposition (CVD) process with the possibility of varying the pressure has been developed and is reported in this paper. Therma...

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Thermal Decomposition of Ferrocene as a Method for Production of Single-Walled Carbon Nanotubes without Additional Carbon Sources

Barreiro, Amelia; Hampel, Silke; Rümmeli, Mark H.; Kramberger, Christian; Grüneis, Alexander; Biedermann, Kati; Leonhardt, Albrecht; Gemming, Thomas; Büchner, Bernd; Bachtold, Adrian; Pichler, Thomas
2006-09-29

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Síntesis de materiales cerámicos mediante técnicas químicas en fase vapor (CVD) | Chemical vapour deposition (CVD) synthesis of ceramic materials

Gómez-Aleixandre Fernández, Cristina ; Albella Martín, José María ; Ojeda, F. ; Martí, F. J.

[ES] Actualmente, la técnica de CVD está siendo utilizada en la síntesis de una gran variedad de compuestos cerámicos, generalmenteen forma de capa delgada. La técnica, desarrollada inicialmente para su aplicación en microelectrónica, ha sidodespués utilizada con éxito en otras áreas de gran activ...

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Síntesis de materiales cerámicos mediante técnicas químicas en fase vapor (CVD)

Gómez-Aleixandre Fernández, Cristina; Albella Martín, José María; Ojeda, F.; Martí, F. J.
2003-01-01

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8

Si K-edge XANES study of SiOxCyHz amorphous polymeric materials

Chaboy, J.; Barranco Quero, Ángel; Yanguas-Gil, Alejandro.; Yubero Valencia, Francisco; González-Elipe, Agustín R.
2007-02-01

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9

Roughening kinetics of chemical vapor deposited copper films on Si(100)

Vázquez, Luis; Albella Martín, José María; Salvarezza, R. C.; Arvia, A. J.; Levy, R. A.; Perese, D.
1996-02-26

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10

Removal of carbon films by oxidation in narrow gaps: Thermo-oxidation and plasma-assisted studies

Tanarro, Isabel; Ferreira, J. A.; Herrero, Víctor J.; Tabarés, F. L.; Gómez-Aleixandre Fernández, Cristina
2009-01-26

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Remote plasma chemical vapor deposition silicon oxynitride thin films: Dielectric properties

Hernández Vélez, M.; Sánchez Garrido, Olga; Fernández Gutiérrez, F.; Falcony, C.; Martínez Duart, J. M.
1998-05-01

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13

Proceso de grabado seco de silicio monocristalino para aplicaciones en guías de onda coplanares

Leal-Romero, R.; Zaldivar-Huerta, I.E.; Reynoso-Hernández, J.A.; Reyes-Betanzo, C.; Maya-Sánchez, M.C.; Aceves-Mijares, M.
2010-02-01

Resumen en español En este trabajo se estudia la utilización de grabado anisotrópico y SRO con la finalidad de mejorar el rendimiento de las guías de onda coplanares. Se presentan resultados experimentales de grabado seco de silicio monocristalino para su aplicación en la fabricación de guías de onda coplanares (CPW's) empleando un reactor RIE/ICP. Se observa la contribución de los componentes tanto físicos como químicos de grabado seco. Los gases reactivos que se utilizan son el h (mas) exafluoruro de azufre (SF6) mezclado con oxígeno (O2). Para el grabado se emplean enmascarantes de fotorresina (FR) y óxido de silicio (SiO2), este último es obtenido mediante depósito químico en fase vapor a presión atmosférica (APCVD). Se obtienen velocidades de grabado de 2.8 a 3.4 µm/min al utilizar SiO2 como enmascarante. Resumen en inglés In this work, the anisotropic etching and the use of silicon rich oxide (SRO) are studied in order to improve the waveguide coplanar (CPW). Experimental results of dry etching of mono-crystalline silicon for application in CPW's using RIE/ICP reactor are presented. The contribution of the physical as much chemical components of dry etching is observed. The reactive gases that are used are Sulfur hexafluoride (SF6) mixed with oxygen (O2). For etching the silicon masks of p (mas) hoto-resist and silicon oxide (SiO2) are used, this last one is obtained by atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD). Speed of etching from 2.8 to 3.4 µm/min are obtained when using SiO2 as mask.

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14

Preparación de recubrimientos cerámicos mediante técnicas de CVD

Ojeda, F.; Martí, F. J.; Albella Martín, José María
1998-12-01

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15

Plasma assisted chemical vapor deposition silicon oxynitride films grown from SiH4 + NH3 + O2 gas mixtures

Olivares Roza, J.; Sánchez Garrido, Olga; Albella Martín, José María
1998-09-01

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16

Photonic bandgap materials based on silicon.

Ozin Geoffrey, Alan; López Fernández, Ceferino; Meseguer Rico, Francisco
2010-08-02

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Photonic bandgap materials based on germanium.

Miguez García, Hernan Ruy; John, Sajeev; Chomski Emmanuel, Benjamin; López Fernández, Ceferino; Meseguer Rico, Francisco; Ozin Geoffrey, Alan
2001-11-15

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Materials and vapour-phase techniques for the synthesis of ceramic coatings | Materiales y técnicas de fase vapor para la síntesis de recubrimientos cerámicos

Albella Martín, José María ; Jiménez Guerrero, Ignacio ; Gómez-Aleixandre Fernández, Cristina ; Alberdi, A.

[ES] Se hace un descripción de los avances recientes en la síntesis de recubrimientos duros de tipo cerámico, depositados mediante técnicas de deposición en fase vapor. Se dedica especial atención a los parámetros del proceso de deposición que controlan las propiedades finales de las capas (estructu...

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Materials and vapour-phase techniques for the synthesis of ceramic coatings

Albella Martín, José María; Jiménez Guerrero, Ignacio; Gómez-Aleixandre Fernández, Cristina; Alberdi, A.
2007-07-01

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Material con estructura tipo fulereno, procedimiento de fabricación y sus aplicaciones

Camero Hernanz, Manuel; Buijnsters, Josephus Gerardus; Landa Cánovas, Angel; Jiménez Guerrero, Ignacio; Gómez-Aleixandre Fernández, Cristina; Gago Fernández, Raúl
2007-11-22

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21

Low Pressure PECVD of Nanoparticles in carbon thin films from low pressure radiofrequency Ar/H2/C2H2 plasmas. Synthesis of films and analysis of the electron energy distribution function

Camero, Manuel ; Gordillo Vázquez, Francisco J. ; Gómez-Aleixandre Fernández, Cristina

[Full-text paper not available yet] | A study of the synthesis of carbon nanoparticles embedded in carbon thin films deposited by radiofrequency (RF) (13.56 MHz) Ar/H2 (4 %)/C2H2 plasmas is presented. The carbon nanospheres exhibit an amorphous structure that is clearly observed at 300 W, under 0.1 ...

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From carbon nanostructures to new photoluminescence sources: an overview of new perspectives and emerging applications of low pressure PECVD

Gordillo Vázquez, Francisco J. ; Herrero, Víctor J. ; Tanarro, Isabel

13 pages, 9 figures. | Low-pressure, plasma-enhanced (PE)CVD is a powerful and versatile technique that has been used for thin-film deposition and surface treatment since the early 1960s. However, it is only recently that it has been used in applications other than thedifferent stages of microelect...

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Estudio para la recuperación de herramientas recubiertas con nitruro de cromo mediante ensayos galvanostáticos

Cristóbal, A. B.; Conde, A.; Rodríguez, R.; Fuentes, G. G.; Carreras, L.; Damborenea, Juan de
2006-04-30

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26

Estrogenic activity in sediments from European mountain lakes

García-Reyero, Natàlia; Piña, Benjamín; Grimalt, Joan O.; Fernández Ramón, M. Pilar; Fonts, Roger; Polvillo, Olivia; Martrat Sotil, Belén
2005-01-22

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Effects of partial and total methane flows on the yield and structural characteristics of MWCNTs produced by CVD

Vallés, Cristina ; Pérez-Mendoza, Manuel ; Maser, Wolfgang K ; Martínez, M Teresa ; Alvarez, Laurent ; Sauvajol, Jean-Louis

Multi-walled carbon nanotubes (MWCNTs) were produced in a chemical vapor deposition(CVD) process employing methane and argon as hydrocarbon and carrier gas over supportedsol–gel Co–Mo/MgO catalysts. A detailed study about the influence of the gas flow of both hydrocarbon and carrier gas on carbon ...

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Effects of partial and total methane flows on the yield and structural characteristics of MWCNTs produced by CVD

Vallés, Cristina; Pérez-Mendoza, Manuel; Maser, Wolfgang K; Martinez, M. Teresa; Alvarez, Laurent; Sauvajol, Jean-Louis; Benito, Ana M
2009-01-01

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Composición iónica y niveles de acidez de las lluvias en Maracaibo, Venezuela, entre 1989 y 2001/ Ion composition and acidity levels of the Maracaibo rains, Venezuela, between 1989 and 2001

SÁNCHEZ, Ligbel; MORALES, José; VELÁSQUEZ, Harvi; PORTILLO, Dennis; CANO, Yulixis; MONTILLA, Brinolfo; IRIARTE, Nelkis; MESA, Johan
2009-08-01

Resumen en español Los gases y aerosoles atmosféricos, desde varias fuentes de emisión naturales y antrópicas, se incorporan en las gotas de lluvia a través de varios procesos fisicoquímicos durante los eventos de precipitación. El conocimiento de la composición química de las precipitaciones es crítico para el entendimiento de la contaminación regional y local y sus efectos sobre los ecosistemas. Entre las sustancias ácidas o potencialmente ácidas envueltas en la formación de (mas) la lluvia ácida, se puede señalar los compuestos de azufre, nitrógeno y cloro. Un factor importante en las características ácido-base de la lluvia es la emisión de materiales alcalinos como carbonato de calcio, magnesio y amoniaco, que se encuentran generalmente como un vapor capaz de neutralizar los ácidos sulfúrico y nítrico. Los datos de la química de las lluvias, en este trabajo, provienen de varios sitios de la ciudad de Maracaibo, las muestras de agua de lluvia fueron recolectadas en tres períodos repartidos entre los años 1989 y 2001, con equipos de muestreo manuales y automáticos. Para los diferentes análisis realizados se utilizaron un espectrómetro de absorción atómica modalidad llama, Perkin-Elmer 3110 y un cromatógrafo iónico con detector de conductividad, marca Dionex 2000i/SP. El pH-PPV en la lluvia de Maracaibo es 4.8, indicativo de una atmósfera ligeramente ácida e influenciada por: SO4-2, Cl- y NO3- en 86 %. La especie neutralizante más importante es el NH3, aunque las concentraciones de Ca+2 y Mg+2 son aportes adicionales al proceso de neutralización atmosférica. El mayor flujo de depositación húmeda fue exhibido por: NH4+, SO4-2, Cl- y NO3- con 67.5 %. Estadísticamente, se evidenció una alta correlación entre SO4*, Cl* y NO3- con el ion H+ (p Resumen en inglés The atmospheric gases and aerosols coming from various natural and anthropogenic emissions are incorporated into raindrops through various physicochemical processes during rain events. Knowledge of the chemical composition of precipitation is critical to understand regional and local air pollution and its effects on the ecosystems. Sulfur, nitrogen and chlorine compounds are mainly involvedin rain acidity production as acidic or potentially acidic species. An important fa (mas) ctor in the acid-base characteristics of rain is the emission of alkaline materials such as calcium-magnesium carbonates and ammonia, generally found as a vapour responsible to sulfuric and nitric acids neutralizing. Rain chemistry reported in this work originates from several sites of the city of Maracaibo and the rainwater samples were gathered in three periods between 1989 and 2001, using manual and automatic samplers. The different analyses were made using a flame atomic absorption spectrometer, Perkin-Elmer 3110 and an ion chromatography equipment with a conductivity detector, Dionex 2000i/SP. The pH-PPV in Maracaibo rainwater was 4.8, indicating an atmosphere lightly acid and influenced by SO4-2, Cl- and NO3- in 86 %. NH3 is the most important neutralizing species, though the concentrations of Ca+2 and Mg+2 are additional contributions to atmospheric neutralizing process. The major flow of wet deposition was exhibited by NH4+, SO4-2, Cl- and NO3- with 67.5 %. Statistically, a high correlation was found between SO4*, Cl* and NO3- ions with the H+ ion (p

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Behavior of oxygen doped SiC thin films: An x-ray photoelectron spectroscopy study

Ávila, A.; Montero Herrero, Isabel; Galán, L.; Ripalda, J. María; Levy, R. A.
2001-01-01

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A comparison of different carbon filaments on the nanometer and atomic scales by scanning tunneling microscopy

Méndez, A. ; Freitas, M. M. A. ; Villar Rodil, Silvia ; Paredes Nachón, Juan Ignacio ; Martínez Alonso, Amelia

4 pages, 2 figures.-- Printed version published Oct 2007. | Scanning tunneling microscopy (STM) has been employed as a tool to elucidate the structural differences between carbon nanotubes (CNTs) and carbon nanofibers (CNFs) at the nanometer and atomic scales. As opposed to the seamless, virtually d...

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A comparison of different carbon filaments on the nanometer and atomic scales by scanning tunneling microscopy

Méndez, A.; Freitas, M. M. A.; Villar Rodil, Silvia; Paredes Nachón, Juan Ignacio; Martínez Alonso, Amelia; Díez Tascón, Juan Manuel; Figueiredo, J. L.
2007-03-15

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